我国将首次举办保护知识产权展览

文章来源:中国工商报 发布时间:2006-03-13

3月1日上午，全国整规办召开新闻发布会宣布：全国整规办、中宣部、公安部、商务部、文化部、国资委、海关总署、工商总局等部门将于4月16日至23日在北京军事博物馆共同举办“中国保护知识产权成果展览会”。

　　国务院领导高度重视这次展览，中共中央政治局委员、国务院副总理、国家保护知识产权工作组组长吴仪专门作出批示。据全国整规办有关负责人介绍，此次成果展是我国第一次举办以保护知识产权为内容的大型展览，是对我国20年来保护知识产权成果的一次全面检阅，是加强对内教育和扩大对外宣传的重要举措。展览旨在展现我国保护知识产权的立场、方针和政策，展示我国在保护知识产权领域取得的成绩，阐明保护知识产权与推进经济社会发展、丰富人民群众物质文化生活的密切关系，推动我国知识产权保护工作深入开展，贯彻落实建设创新型国家的战略任务。

　　据了解，作为此次成果展的配套活动，展会期间还将举行由政府部门主办的“2006年中国保护知识产权高层论坛”，国家领导人、政府主管部门领导、有关国际组织领导、中外知名企业领导等400多名参会代表将围绕经济全球化进程中知识产权保护对促进经济、社会发展的作用，企业知识产权发展战略及企业面临的知识产权新问题，跨国公司在我国的品牌保护和促进企业自主创新、自主维权等热点问题进行深入研讨。